钽溅射靶材、钽钨合金靶材 深圳东升稀有金属有限公司

钽溅射靶材、钽钨合金靶材
规格:直径（50-400）mm *厚度(3-28)mm　
牌号：RO5200， RO5400， RO5252(Ta-2.5W)， RO5255(Ta-10W)
纯度：>=99.95％(最大99.99％)

成份说明:

Ta	99.95　　％最少
O	0.0120　 ％最大
C	0.0040　 ％最大
N	0.0040　 ％最大
H	0.0010　 ％最大
S	0.0001　 ％最大
Al	0.0005　 ％最大
Ca	0.0005　 ％最大
Cd	0.0005　 ％最大
Cl	0.0005　 ％最大
Co	0.0005　 ％最大
Cr	0.0005　 ％最大
Cu	0.0005　 ％最大
Fe	0.0005　 ％最大
Hf	0.0005　 ％最大
K	0.0001　 ％最大
Li	0.0001　 ％最大
Mg	0.0005　 ％最大
Mn	0.0005　 ％最大
Mo	0.0030　 ％最大
Na	0.0001　 ％最大
Nb	0.0350　 ％最大
Ni	0.0005　 ％最大
Pb	0.0005　 ％最大
Si	0.0005　 ％最大
Sn	0.0005　 ％最大
Ti	0.0005　 ％最大
Th	0.0050　 ％最大
V	0.0005　 ％最大
W	0.0050　 ％最大
Zn	0.0005　 ％最大
Zr	0.0005　 ％最大
Y	0.0005　 ％最大
U	0.0050　 ％最大
其它	0.0005　 ％最大

再结晶 :95％最少
晶粒度 :最小40μm
表面粗糙度: Ra 0.4 最大
平整度:0.1mm or 0.10％ 最大.
公差:直径公差+/- 0.254
如有特殊要求，双方具体商定

Tantalum target

uniform grain size, and very good straightness.

Tantalum target,       Tantalum sputtering targets,      Tantalum- tungsten Alloy targets

Material:RO5200， RO5400， RO5252(Ta-2.5W)， RO5255(Ta-10W)
Size: circular targets:Diameter　 15mm up to 400mm x Thickness 3mm up to 28mm
rectangular targets:Thickness 1mm up to 40mm x Width up to 1000mm x Length up to 3000mm

Table 1: technology　 parameter

Grade	3N， 3N5， 4N， with Ta　99.99％min
Recrystallization	95％min
Grain size	ASTM 4 or finer
Surface finish	16Rms max. or Ra 0.4 ( RMS64 or better)
Flatness	0.1mm or 0.15％ max
Tolerance	+/-0.010" on all dimensions

Table 1. Chemical composition:

Tantalum targetApplications

Using Tantalum Strip, Tantalum Foil, Tantalum Foil Strip in Electronics industry.